青海活性屏离子氮化炉电话

湖北丰热科技有限公司原武汉离子热处理研究所，制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

离子渗氮是在真空室内进行的，工件接高压直流电源的负极，真空钟单接正极。将真空室的真空度抽到66.67pa后，充人少量氮气或氢气、氮气的混合气体。当电压调整到400~800v时，氮即电离分解成氮离子、氢离子和电子，并在工件表面产生辉光放电现象。在置有板状电极的玻璃管内充入低压约几毫米厷柱气体或蒸气，当两极间电压较高约1000伏时，稀薄气体中的残余正离子在电场中加速，有足够的动能轰击阴极，产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒子，使气体导电。正离子受电场作用加速轰击工件表面，使工件升温到渗氮温度。氮离子在钢件表面获得电子，还原成氮原子而渗人钢件表面并向内部扩散，形成渗氮层。

操作比气体渗氮复杂，需要控制的厂艺参数多，测量温度和控制温度均匀比较难；装炉有严格要求，装炉-或形状不同、大小不同的零件混装炉容易出现渗层不均匀等疵病，造成废品或返修；设备费刚贵，有时需要配置辅助阳极等。

在射频辉光放电空间中，高频电子震荡已能产生足够的工作气体电离，对二次电子发射的依耐性减少了。射频磁控溅射气体放电时等离子阻抗低，工作气体击穿点火电压和维持异常辉光放电电压比中频靶电源时又要降低很多(点火电压只有直流放电等离子辉光放电时的五分之一~八分之一)。用于磁控溅射镀膜气体放电的交流电源主要有双极性脉冲(矩形波或正弦波)中频靶电源与射频靶电源两大类别。??

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在阴极附近，二次电子发射产生的电子在较短距离内尚未得到足够的能使气体分子电离或激发的动能，所以紧接阴极的区域不发光。而在阴极辉区，电子已获得足够的能量碰撞气体分子，使之电离或激发发光。1831~1835年,m.法拉第在研究低气压放电时发现辉光放电现象和法拉第暗区。当电源输出脉冲的重复频率很低(例如几百hz以下)或灭弧时间过长(大于100ms以上)，溅射靶起辉放电后，由于真空腔体内的导电离子已基本被中和掉，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压恢复至较高数值，与点火起辉时的高电压接近或相同。1858年,j.普吕克尔在1/100托下研究辉光放电时发现了阴极射线，成为19世纪末粒子辐射和原子物理研究的先驱。