渗氮电话

湖北丰热科技有限公司原武汉离子热处理研究所，制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

公司是经科学技术1部认定的“火炬计划重点高新技术企业”、是按高企认定新标准经湖北省高新技术企业认定管理工作协调小组认定的“高新技术企业”；由于其特点，辉光发电应用于发射光谱分析，用作气体分析和难激发元素分析的激发光源。公司多项产品通过了省-和中国热处理行业协会的科技成果鉴定，曾获得“科学技术进步二等奖”、“教育1部科技进步一等奖”、“机械工业科技进步三等奖”等奖项，公司产品项目曾被列为“火炬计划”、“经贸委国1债”、“科技部中小企业技术-基1金”，公司多项产品被评为“湖北省-产品”和“热处理行业-设备”。

辉光离子氮化作为七十年代兴起的一种新型渗氮方法与一般的气体渗氮相比，辉光离子渗氮的特点有：渗氮速度较快，可适当缩短渗氮周期，离子氮化时间短，能缩短到气体氮化时间的1/3～2/3。渗氮层脆性小，离子氮化表面形成的白层很薄，甚至没有，另外引起的变形小，-适宜于形状复杂的精密零件。易于实现局部氮化，只要设法使不欲氮化的部分不产生辉光即可1，非渗氮部位便于保护，采用机械屏蔽、用铁板隔断辉光，即可保护。

磁控靶的阴极接靶电源负极，阳极接靶电源正极，进入正常溅射时，一定是在气体放电伏-安特性曲线中的“异常辉光放电区段”?运行。其特点是，随着调节电源输出的磁控靶工作电压的增加，溅射电流也应同步缓慢上升

将两个面积不相等的电极置于射频(例如13.56mhz)辉光放电离子体中形成非对称放电，面积小的那个电容耦合阴极有可能形成并建立阴极靶表面的负偏压，并能产生溅射。?电容耦合型射频(rf)放电电极自给偏压的形成，可以防止绝缘层表面正电荷的积累，有助于射频放电的维持。阴极靶表面的“自生负偏压”的数值可以近似等于射频溅射电压的幅值，1高时可达千伏量级。溅射靶起辉放电后，当电源的输出脉冲的重复频率足够高时，由于真空腔体内的导电离子还没有完全被中和完毕，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压与溅射靶的工作电压接近或相同。